SK海力士:正积极争取为无锡存储工厂引进EUV光刻机
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2022-03-05 11:13:23
本月22日,韩国半导体工业协会成立30年纪念活动在首尔举办。与会期间,sk海力士ceo seok-hee lee(李锡熙)和媒体交流时谈到了无锡海力士半导体工厂相关情况。关于euv光刻机进厂可能延期的...
本月22日,韩国半导体工业协会成立30年纪念活动在首尔举办。
与会期间,sk海力士ceo seok-hee lee(李锡熙)和媒体交流时谈到了无锡海力士半导体工厂相关情况。
关于euv光刻机进厂可能延期的问题,李锡熙表示,正与美方合作,进展良好。euv光刻技术已经在韩国本土的dram产线上应用,中国工厂还有充足的时间供斡旋沟通。
据悉,sk海力士将基于euv光刻机制造10nm dram芯片,也就是第四代内存。无锡工厂同样计划应用相关技术,目前正寻求多种途径克服困难,毕竟它是一家韩国企业。
资料显示,无锡海力士工厂的dram产能大约占sk海力士全球产能的15%。
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