单价超19亿 Intel全球首个下单订购ASML最先进EUV光刻机：性能大增

1月19日最新消息，intel宣布第一个下单订购了asml twinscan exe:5200光刻机。

twinscan exe:5200是asml的高na（数值孔径）euv光刻机，其吞吐量超每小时220片晶圆（wph）。

从路线图来看，exe:5200预计最快2024年底投入使用，2025年开始大规模应用于先进芯片的生产。

事实上，4年前，asml的第一代高na（0.55 na）光刻机exe:5000，intel就是第一个下单的公司。不过当前的7nm、5nm芯片还并非是其生产，而是0.33na euv光刻机。

和0.33na光刻机相比，0.55na的分辨率从13nm升级到8nm，可以更快更好地曝光更复杂的集成电路图案，突破0.33na单次构图32nm到30nm间距的极限。

外界预计，第一代高na光刻机exe:5000会率先用于3nm节点，至于exe:5200，按照intel的制程路线图，2025年至少是20a或者18a，也就是5nm和5nm+。

此前，asml发言人曾对媒体透露，更高的光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍、同时密度增加2.9倍。未来比3nm更先进的工艺，将极度依赖高na euv光刻机。

最后不得不说，intel能抢到第一单，除了和asml一致紧密合作外，当然也是因为“钞能力”，gartner分析师alan priestley称，0.55na下一代euv光刻机单价将翻番到3亿美元（约合19亿元人民币）。

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