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Intel 7nm EUV工艺2021年首发:密度翻倍 每瓦性能提升20%

程序员文章站 2022-06-01 14:48:29
在制程工艺上,intel从2015年到现在一直在魔改14nm工艺,10nm工艺说是今年6月份量产了,但在时间进度上确实要比台积电等公司落后了,amd今年都出7nm的cp...

在制程工艺上,intel从2015年到现在一直在魔改14nm工艺,10nm工艺说是今年6月份量产了,但在时间进度上确实要比台积电等公司落后了,amd今年都出7nm的cpu和显卡了。

今年5月份的投资会议上,intel宣布了新一代制程工艺路线图,14nm工艺(对标台积电10nm)会继续充实产能,10nm工艺(对标台积电7nm)消费级产品今年年底购物季上架,服务器端明年上半年。

Intel 7nm EUV工艺2021年首发:密度翻倍 每瓦性能提升20%

再往后就是7nm了,intel的7nm对标台积电5nm,预计会在2021年量产,不过首发产品是xe架构的gpu加速卡,cpu的话估计要到到2022年了。

日前韩国媒体曝光了intel的内部资料,详细介绍了7nm工艺以及处理器架构、傲腾、安全等方面的进展,如下所示:

Intel 7nm EUV工艺2021年首发:密度翻倍 每瓦性能提升20%

在制程工艺方面,10nm首发平台是ice lake处理器,6月份出货,其他10nm工艺产品到2020及2021年推出,前面也说了消费级、服务器级的10nm处理器要等到2020年了。

7nm工艺计划2021年推出,相比10nm工艺晶体管密度翻倍,每瓦性能提升20%,设计复杂度降低了4倍。

这是intel首次公布7nm工艺的具体细节,晶体管密度翻倍没有什么意外,正常都应该是这样,不过每瓦性能提升20%,这个数据要比预期更低,也只能说明在10nm之后,intel的先进工艺在性能提升也遇到瓶颈了。

还有intel没有提及能耗的具体信息,作为对比的是,intel之前表示10nm工艺相比14nm降低了60%的能耗或者提升25%的性能。

此外,7nm工艺还是intel首次使用euv光刻工艺,有助于提升工艺微缩。

7nm工艺的首款产品就是xe架构的gpu加速芯片,主要应用于数据中心ai及高性能计算。

Intel 7nm EUV工艺2021年首发:密度翻倍 每瓦性能提升20%

处理器架构方面,现在的服务器端是14nm cascade lake,主要是增加了dl boost指令集加速ai性能。

桌面级还有酷睿i9-9900ks,全核5ghz的9900k加强版了。

ice lake,这是10nm工艺sunny cove核心的全新产品,3x倍无线速度、2倍视频转码速度、2倍图形性能、3倍ai性能这些也是之前说过的了。

ice lake的核显架构升级到gen11,32位浮点性能达到1tflops以上,eu单元至少64个。

Intel 7nm EUV工艺2021年首发:密度翻倍 每瓦性能提升20%

存储芯片方面,intel今年上半年已经推出了傲腾h10,整合了傲腾内存及qlc闪存,9月份还有傲腾m10及m15新品,这是新一代傲腾内存,不过具体规格不详。

Intel 7nm EUV工艺2021年首发:密度翻倍 每瓦性能提升20%

安全性方面,ice lake处理器主要增加了gfni、sgx、pcfonfig等指令,ice lake下一代的tiger lake会支持cet增强指令,atom处理器中的下代tremont架构也会增加sgx、gfni等指令集。

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