基本半导体推出PD快充用碳化硅二极管:极致小尺寸 国内首创
2020年,当大部分快充电源厂商还在探索65w氮化镓快充市场时,倍思开创性地推出了业界首款120w氮化镓+碳化硅快充充电器。也正是这款产品,第一次将“碳化硅快充”从设想变为现实,开启了碳化硅在快充领域商用的大门。
针对pd快充“小轻薄”的特点,碳化硅功率器件领先企业基本半导体在国内率先推出smbf封装碳化硅肖特基二极管新品,该产品具有体积小、正向导通压低和抗浪涌能力强等特点,能很好地满足pd快充对器件的特殊需求。
更小体积
在pd这种极度紧凑的应用中,pcb面积极其珍贵,超薄型pd快充通常优先选择厚度低于2mm的表贴器件。
基本半导体smbf封装碳化硅肖特基二极管最大的优点就是在pcb上的占用面积小,仅为19mm?,其长宽高分别为5.3mm*3.6mm*1.35mm,比smb封装(厚度2.3mm)更薄,比dfn系列封装和to-252封装面积更小。
基于不同功率的需求,客户可以灵活地选择采用3a/4a的器件,或者并联使用(碳化硅肖特基二极管的vf为正温度系数,适合并联)。综合来说,从厚度以及pcb占用面积来看,smbf的尺寸更契合pd“小轻薄”的特点。
采用clip bond焊接工艺
smbf封装碳化硅肖特基二极管采用clip bond焊接工艺,该工艺将器件的引线框架与芯片的上下表面分别进行焊接实现连接。与传统的芯片上表面打铝绑定线的连接技术相比, clip bond工艺具有以下技术优势:
芯片上下表面与管脚的连接采用固体铜片焊接,上表面用铜片铝绑定线,可以获得更低的封装电阻、更高的通流能力和更好的导热性能;这实际上是一种芯片的双面散热的方式,导热效率明显提升。产品外形与传统smb器件接近,pcb布局上两者可以兼容,实现应用端的无缝替代。
低正向导通压降
基本半导体to-252封装b1d04065e型号碳化硅肖特基二极管已在pd行业批量应用,此次新推出的smbf封装b2d04065v产品与之相比具有更低的正向导通电压(参见表2)。
值得注意的是,b1d04065e为基本半导体第一代碳化硅二极管产品,b2d04065v为第二代碳化硅二极管,其主要改进点是采用了衬底减薄工艺,使二极管的vf显著下降。
b1d04065e: △vf(tj=150℃- tj=25℃ )=0.25v;
b2d04065v: △vf(tj=150℃- tj=25℃ )=0.20v;
通过对比smbf和to-252的△vf ,△vf –smbf" data-textnode-index="46" data-index="1160" data-modify-id="1618409388" style="box-sizing: inherit; -webkit-font-smoothing: antialiased; word-break: break-word; overflow-wrap: break-word; margin: 0px; padding: 0px; border: 0px;"><△vf –to-252 ,b2d04065v的vf和tj的依赖性更好,高温下的导通损耗更低。
高浪涌电流能力ifsm
在pfc电路中,升压二极管需要应对电网接入瞬间的电流冲击。全球电网工频主要采用50hz和60hz,以50hz工频电网为例,其一个周期内半波脉宽为10ms,器件应用在50hz电网对应的pfc电路中时,需要标定10ms正弦波浪涌电流能力ifsm,而应用在60hz电网对应的pfc电路中时,需要标定8.3ms正弦波浪涌电流能力。
设备接入电网瞬间,pfc升压电流中的滤波电容近似短路,电网电压接入后,会形成上图中的红色电流路径(路径之一);冲击电流的大小同电压接入的时间点有直接关联;当设备接入电网时,二极管开始承受冲击电流,在正弦波波峰承受的冲击电流最大。
表3:b1d04065e和b2d04065v浪涌电流能力ifsm对比
基本半导体首款基于smbf封装650v 4a的碳化硅肖特基二极管已经面世,650v系列将逐步推出2-6a规格产品。
基本半导体掌握国际领先的碳化硅核心技术,研发覆盖碳化硅功率器件的材料制备、芯片设计、晶圆制造、封装测试、驱动应用等全产业链,先后推出全电流电压等级碳化硅肖特基二极管、通过工业级可靠性测试的1200v碳化硅mosfet、车规级全碳化硅功率模块等系列产品,性能达到国际先进水平。其中650v碳化硅肖特基二极管产品已通过aec-q101可靠性测试,其他同平台产品也将逐步完成该项测试。
基本半导体碳化硅功率器件产品被广泛应用于新能源、电动汽车、智能电网、轨道交通、工业控制、国防军工及消费电子领域。
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