欢迎您访问程序员文章站本站旨在为大家提供分享程序员计算机编程知识!
您现在的位置是: 首页  >  科技

狂购最先进EUV光刻机:台积电开始为1nm制程做准备

程序员文章站 2022-04-16 17:27:32
之前有消息称,台积电正在筹集更多的资金,为的是向asml购买更多更先进制程的euv光刻机,而这些都是为了新制程做准备。在不久前举办的线上活动中,欧洲微电子研究中心imec首席执行官兼总裁luc van...

之前有消息称,台积电正在筹集更多的资金,为的是向asml购买更多更先进制程的euv光刻机,而这些都是为了新制程做准备。

在不久前举办的线上活动中,欧洲微电子研究中心imec首席执行官兼总裁luc van den hove在线上演讲中表示,在与asml公司的合作下,更加先进的光刻机已经取得了进展。

luc van den hove表示,imec的目标是将下一代高分辨率euv光刻技术高na euv光刻技术商业化。由于此前得光刻机竞争对手早已经陆续退出市场,目前asml把握着全球主要的先进光刻机产能,近年来,imec一直在与asml研究新的euv光刻机,目前目标是将工艺规模缩小到1nm及以下。

目前asml已经完成了nxe:5000系列的高na euv曝光系统的基本设计,至于设备的商业化。要等到至少2022年,而等到台积电和三星拿到设备,之前要在2023年。

与此同时,台积电在材料上的研究,也让1nm成为可能。台积电和交大联手,开发出全球最薄、厚度只有0.7纳米的超薄二维半导体材料绝缘体,可望借此进一步开发出2纳米甚至1纳米的电晶体通道。

据悉,台积电正为2nm之后的先进制程持续觅地,包含桥头科、路竹科,均在台积电评估中长期投资设厂的考量之列。

狂购最先进EUV光刻机:台积电开始为1nm制程做准备

- the end -

转载请注明出处:快科技

责任编辑:雪花