三星打造17nm LPV工艺：28nm＋14nm二合一

半导体工艺不只是，因为还有很多芯片并不需要太先进的制程，它们往往不太复杂，但对成本非常敏感。

今天，三星宣布推出全新的17lpv 17nm工艺，意为low power value。

其实，它就是28nm工艺的进化版，融合了28nm beol后端工序、14nm feol前端工序，也就是在28nm节点的基础上，加入了14nm finfet立体晶体管，只需不高的成本，就能享受后者的能效优势。

三星称，17nm lpv工艺相比传统28nm，芯片面积可缩小43％，可以带来39％的性能提升或者49％的能效提升。

三星17nm lpv工艺的量产时间没有说，但三星已经宣布第一个服务对象是isp图像信号处理器，属于三星自家的cmos传感器产品线。

此外，三星还打造了14nm lpu工艺，意味low power ultimate，但未透露详情，可能也是28nm beol加上14nm feol。

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