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三星率先为DRAM芯片导入EUV:明年将用于DDR5/LPDDR5大规模量产

程序员文章站 2022-04-03 21:34:10
当前在芯片制造中最先进的euv(极紫外光刻)工艺被三星率先用到了dram内存颗粒的生产中。这家韩国巨头今日宣布,已经出货100万第一代10nm euv级(d1x)ddr4 dr...

当前在芯片制造中最先进的euv(极紫外光刻)工艺被三星率先用到了dram内存颗粒的生产中。

这家韩国巨头今日宣布,已经出货100万第一代10nm euv级(d1x)ddr4 dram模组,并完成全球客户评估,这为今后高端pc、手机、企业级服务器等应用领域开启新大门。

得益于euv技术,可以在精度更高的光刻中减少多次图案化的重复步骤,并进一步提升产能。

三星表示,将从第四代10nm级(d1a)dram或高端级14nm级dram开始全面导入euv,明年基于d1a大规模量产ddr5和lpddr5内存芯片,预计会使12英寸晶圆的生产率翻番。

不过,目前支持ddr5的pc平台尚未亮相,lpddr5倒是已经逐渐铺开。三星量产的第一代euv ddr5 dram单芯片容量为16gb(2gb),地点是平泽市的v2线。

根据三星此前的预判,euv将帮助公司至少推进到3nm尺度。

三星率先为DRAM芯片导入EUV:明年将用于DDR5/LPDDR5大规模量产