台积电5nm芯片成本超2900元:不是谁都能玩得起
近日,媒体报道了台积电2nm制程研发进度超前,业界看好其2023年下半年风险试产良率就可以高达90%。这对于业界而言既是好消息,也是坏消息。
好的是,当下ai和手机等芯片可以凭借先进制程获得更好的能效比,进行更多创新。坏的是,先进制程芯片的成本给无晶圆芯片设计公司带来了巨大的压力。
乔治敦大学沃尔什外交学院安全与新兴技术中心(cset)的两位作者编写的一份题为《ai chips: what they are and why they matter》的报告,借助模型预估得出,台积电每片5nm晶圆的收费可能约为17000美元,是7nm的近两倍。
该报告同时估计,每片300mm直径的晶圆通常可以制造71.4颗5nm芯片,这让无晶圆芯片公司的制造成本达到每颗238美元(约为1642元)。
不仅不如,通过对半导体行业和ai芯片设计的调查,作者通过模型不仅估算出5nm芯片238美元的制造成本,还提出了每颗芯片108美元的设计成本以及每颗芯片80美元的封装和测试成本。
这使芯片设计公司为每颗5nm芯片支付的总成本将高达426美元(约为2939元)。
5nm之后“高贵”的先进制程
市场研究机构international business strategies (ibs)给出的数据显示,28nm之后芯片的成本迅速上升。28nm工艺的成本为0.629亿美元,到了7nm和5nm,芯片的正本迅速暴增,5nm将增至4.76亿美元。三星称其3nm gaa 的成本可能会超过5亿美元。
来自ibs
设计一款5nm芯片的总成本将高达近5亿美元,那平均到每颗芯片的成本有多高?cset在报告中的模型类比了英伟达p100 gpu,这款gpu基于台积电16nm节点处制造,包含153亿个晶体管,裸片面积为610 平方毫米,相当于晶体管密度25 mtr/mm 2。
由此计算,直径300毫米的硅晶片能够生产71.4颗 610平方毫米的芯片。
假设5nm gpu的芯片面积为610平方毫米,并且晶体管密度比p100 gpu高,达到907亿个晶体管。下表中是用模型估算的台积电90至5nm之间的节点晶体管密度。在90至7nm范围内的节点,模型使用具有相同规格的假想gpu,包括晶体管除晶体管密度,假想的5nm gpu与假设节点关联。
cset的成本模型使用的是无晶圆厂的角度,包含建造工厂的成本、材料、人工,制造研发和利润等。芯片制造出来后,将外包给芯片测试和封装(atp)公司。
当然,使用更先进的制程节点芯片设计公司也会有相应的成本增加。最终看来,芯片设计成本和atp成本之和等于总生产成本,得出每颗5nm芯片支付的总成本将高达426美元成本的结论。
之所以先进制程芯片的成本不断增加,不可忽视的是半导*造设备成本每年增加11%,每颗芯片的设计成本增加24%,其增长率都高于半导体市场7%的增长率。
2018年的时候,台积电ceo魏哲家就打趣地说,台积电预计在5nm投资了250亿美元,各位就知道以后价格是多少了!
并且,随着半导体复杂性的增加,对高端人才的需求也不断增长,这也进一步推高了先进制程芯片的成本。报告中指出,研究人员的有效数,即用半导体研发支出除以高技能研究人员的工资,从1971年到2015年增长了18倍。
换句话说,摩尔定律延续增加大量的投入和人才。
雷锋网此前报道,为了支撑先进制程,台积电十年内研发人数增加了三倍,2017年研发人员将近6200人,比2008年多了近两倍,这6200人只从事研发,不从事生产。
先进制程的高成本如何影响半导体和ai发展?
半导体市场以超过世界经济3%的速度增长。目前,半导体产业占全球的0.5%经济产出。对于半导体产业而言,先进的制程和高性能芯片驱动着行业的进步,晶体管成为关键。
晶体管尺寸减小使每个晶体管的功耗也降低,cpu的峰值性能利用率每1.57年翻一番,一直持续到2000年。此后,由于晶体管尺寸减小放缓,效率每2.6年翻一番,相当于每年30%的效率提升。
报告中指出,台积电声称的节点进步带来的速度提升和功耗降低,从90 nm和5 nm之间以恒定比例变化,但趋势趋于平稳。三星两种指标在14 nm和5 nm之间都有下降趋势,但缺少大于14 nm的节点处的数据。
不过,由于半导体设备、研发等成本持续增加,这也让大量晶圆代工厂无法参与先进制程的生产和竞争,比如,globalfoundries就不生产14 nm以下的芯片。
下表给出了每个工艺节点量产的时间以及代工厂的数量,可以看到,随着制程的向前推进,晶圆代工厂数量越来越少。目前先进的制程工艺代工厂仅剩台积电、三星和英特尔。
虽然代工厂越来越少,但业界对于先进制程的需求并没有减少。ai芯片就对先进制程有不小的需求,最先进的ai芯片比最先进的cpu更快,且具有更高的ai效率算法。ai芯片的效率是cpu的一千倍,这相当于摩尔定律驱动下cpu 26年的改进。
这要求晶体管持续改进,晶体管的改进仍在继续,但进展缓慢。得益于finfet晶体管的发明,英特尔在2011年推出了商业化的22nm finfet,业界也基于finfet将半导*程从22nm一直向前推进到如今的5nm。
到了2nm,台积电和英特尔都采用gaa(gate-all-around,环绕闸极)或称为gaafet维持先进制程的性能提升。魏哲家透露,台积电制程每前进一个世代,客户的产品速度效能提升30%- 40%,功耗可以降低20%-30%。
但高昂的成本和性能提升的幅度减少,让ai公司在计算上花费的时间和金钱更多,进而成为ai发展的瓶颈。
报告指出,ai实验室的训练的费用非常高,估算alphago、alphago zero、alphazero和alphastar模型的训练成本每个为5000万到1亿美元之间。
值得关注的是,由于cset当前正在关注ai和先进计算的进步所带来的影响。该报告称,美国*正在考虑如何控制ai技术,但由于ai软件、算法和数据集不是理想的控制目标,因此硬件成为了重点。
未来,有多少ai芯片功能能够用得起先进制程?ai在全球的发展又会受到怎样的限制?
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