华为李小龙揭秘EUV工艺：半导体领域重大突破

9月7日，华为手机产品线副总裁李小龙在微博科普了一番麒麟990 5g使用的euv（极紫外线）光刻工艺。

李小龙赞叹道：“这次发布的麒麟990 5g使用了euv（极紫外线）光刻工艺，光刻设备的波长从之前的193纳米缩短到了10几纳米，这在半导体领域是非常大的一个突破。正是基于这项技术，我们才能够在约200mm2的面积下集成了103亿颗晶体管，几乎比上一代产品增加了一半。”

但euv究竟是什么呢？李小龙推荐了一篇，感兴趣的读者可以前往围观，简单来说，euv是极紫外光刻（extreme ultraviolet lithography）的缩写，常称作euv光刻，它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术。

麒麟990 5g采用了台积电的7nm+ euv工艺，此前有消息称，苹果的a13也已经锁定台积电7nm+。

此外台积电还透露， 正稳步推进下一代5nm工艺，全面应用euv技术，已经开始风险性试产，预计2020年第一季度量产。另外台积电还有个过渡性质的6nm工艺，基于7nm改进而来，预计2020年第一季度试产，非常适合现有7nm工艺用户直接升级。