ASML一锤定音：Intel 7nm水平高、相当于台积电5nm

半导体进入7nm时代后，荷兰asml（阿斯麦）的euv光刻机成了不可或缺的香饽饽，当然，从进度上来看，台积电、三星进度居前。

日前与媒体交流时，asml技术开发副总裁tony yen确认，虽然euv光刻机的主要客户中有intel，但并没有见到该公司在7nm上进行大批量生产。

他表示，目前最前沿的量产技术是5nm节点，台积电和三星均已上马。

但tony yen紧接着指出，intel有着更高的设计规范，因此intel的7nm就像台积电和三星的5nm。

实际上一直以来，intel都强调，关于节点制程的定义，台积电和三星相对宽泛，intel则更为严格，也就是密度、宽度等指标的要求上。

当然，对自己高标准是好事，但进度拖沓也是不争的事实，按照intel的最新说法，7nm要到2023年才能量产。不出意外的话，彼时的台积电和三星都已经量产3nm一年了。

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