传Intel Xe独显已亮机测试：14nm工艺 可战GTX 1050

在周五的财报会议上，intel首次了透露了旗下高性能xe独显的进度， ceo司睿博宣布dg1 gpu达成了一个重要里程碑。

与此同时，从amd跳槽到intel的图形及视觉技术市场总监chris hook也发了一条推——it's alive，直译起来意思是“它还活着”，但是这条推文实际上应该是暗示intel的xe gpu已经点亮测试了。

此前intel高级副总raja koduri暗示明年6月份的台北电脑展上会发布xe独显，但后面又有消息说还是2020年下半年发布，只不过明年何时发布，现在这个时间点都应该是流片验证了，因为大型芯片流片验证到发布通常需要一年左右的时间，chris hook的alive暗示dg1独显已经进入测试阶段了。

根据之前的爆料，intel的dg1独显将基于xe架构，不过这是一款lp低功耗方向的显卡，搭配gddr6显存，定位在gtx 1050级别的，后者是nvidia pascal架构的中低端显卡，浮点性能1.9tflops左右。

考虑到intel目前的gen11核显的浮点性能已经达到了1tflops以上，xe架构会更先进一代，之前说是核显级的gen12（也是xe架构）性能再次翻倍，所以dg1达到2tflops级别的性能应该没压力。

不过dg1独显的工艺可能有点特殊，爆料显示是14nm工艺，而intel之前的暗示都是说xe独显使用10nm工艺的。

话说回来，dg1如果是定位在入门级独显市场，那么使用成熟、低成本而且高性能的14nm工艺实际上更合适，所以不排除intel在xe独显上使用14nm工艺作为中低端gpu的生产工艺。

当然，2021年的时候intel还会生产7nm工艺的xe显卡，不过这是给数据中心准备的高性能gpu，这样一来intel的xe显卡就集齐14mm、10nm、7nm三种工艺了。