2021年ASML将推下一代EUV光刻机 面向2nm、1nm工艺

作为全球唯一能生产euv光刻机的公司，荷兰asml公司去年出售了26台euv光刻机，主要用于台积电、三星的7nm及今年开始量产的5nm工艺，预计今年出货35台euv光刻机。

目前asml出货的光刻机主要是nxe:3400b及改进型的nxe:3400c，两者基本结构相同，但nxe:3400c采用模块化设计，维护更加便捷，平均维修时间将从48小时缩短到8-10小时，支持7nm、5nm。

此外，nxe:3400c的产能也从之前的125wph（每小时处理晶圆数）提升到了175wph。

不论nxe:3400b还是nxe:3400c，目前的euv光刻机还是第一代，主要特点是物镜系统的na（数值孔径）为0.33。

根据光刻机的分辨率公式，na数字越大，光刻机精度还会更高，asml现在还研发na 0.55的新一代euv光刻机exe:5000系列，主要合作伙伴是卡尔蔡司、imec比利时微电子中心。

exe:5000系列的下一代光刻机主要面向后3nm时代，目前三星、台积电公布的制程工艺路线图也就到3nm，2nm甚至1nm工艺都还在构想中，要想量产就需要新的制造装备，新一代euv光刻机是重中之重。

根据asml的信息，exe:5000系列光刻机最快在2021年问世，不过首发的还是样机，真正用于生产还得等几年，乐观说法是2023年或者2024年才有可能看到na 0.55的exe:5000系列光刻机上市。