单价19亿元 Intel四年前就抢购下一代EUV光刻机：新工艺绝不落后

昨天全球最大的光刻机供应商asml发布了2021年q4及全年财报，去年营收186.11亿欧元，较上一财年增长33%，净利润也从35.54亿欧元涨至58.83亿欧元，全年出货42套euv光刻机，比上一年增加11套。

q4季度中，asml公司还新增了71亿欧元的新订单，其中就有一套na 0.55高数值孔径euv光刻机的销售，这是asml下一代光刻机，订购这个光刻机的是intel，据说成本高达3亿美元，约合19亿元。

要知道，在当前的euv光刻机销售中，台积电及三星都是大客户，订单量远高于intel，但在下一代euv光刻机中intel拿到了独占权，有一定的抢先期，早在2018年就下第一台。

在当前na 0.33的euv光刻机中，intel动作慢了，被台积电、三星抢先，intel的euv工艺芯片量产要到2023年的14代酷睿metor lake上。

在下一代na 0.55的euv光刻工艺中，intel不允许同样的错误再次发生，这一次要抢先三星台积电下单，也会抢先量产20a及18a工艺，首次进入埃米级工艺节点。

基于此，4年来intel实际上已经下单了6台na 0.55的euv光刻机，其中分为两种，twinscan exe:5000系列主要用于工艺研发，产能输出是185wph，每小时生产185片晶圆，2023年上半年交付。

量产型的na 0.55光刻机是twinscan exe:5200，产能提升到200wph，每小时200片晶圆，预计会在2024年下线，intel的20a工艺正好是在2024年量产。

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