日本限制韩国EUV工艺关键材料 三星电子领先地位将受威胁

近日，日韩贸易战愈演愈烈，日本宣布氟聚酰亚胺(fluorine polyimide)、半导*造中的核心材料光刻胶和高纯度氟化氢(eatching gas)三种材料出口到韩国时不再给予优惠待遇，而且每次出货时出口商都必须获得许可，拿到许可大约需要90天时间。日本方面对此态度十分强硬，有分析人士指出，由日本独占市场的光罩基底（mask blank）也有可能成为下一个牺牲品，三星电子euv工程可能因此受冲击。

据《韩联社》报道，日本可能增加的限制品项包含集成电路（ic）、电源管理ic（pmic）、光刻设备、离子注入机、晶圆、光罩基底等。值得注意的是，除euv制程用的光刻胶没有其他替代品，日本企业在晶圆、光罩基底市场中，市占率非常高。日本的动向将直接影响到三星电子euv工艺。

目前，三星正处于和台积电的5nm工艺争霸的关键时刻，这对三星电子来说无疑是一个重大打击。此前三星曾拿到了英伟达gpu7nm芯片的订单，近日英伟达又出来澄清说不是三星独家代工，而是同时使用三星及台积电两家的7nm工艺。

报道称，接近三星的消息人士表示三星的部分研究计划已经受到了影响，三星为了确保关键的光刻胶供应能够得到保障，现在不得不暂时搁置与euv光刻工艺相关的芯片研发工作。