ASML研发更先进光刻机：高数值孔径极紫外光刻设计基本完成

对于阿斯麦（asml）来说，他们正在研发更先进的光刻机，这也是推动芯片工艺继续前行的重要动力。

asml是全球目前唯一能制造极紫外光刻机的厂商，其在推出twinscan nxe:3400b和nxe:3400c这两款极紫外光刻机之后，还在研发更先进、效率更高的极紫外光刻机。

从外媒的报道来看，除了nxe:3600d，阿斯麦还在研发高数值孔径的极紫外光刻机nxe:5000系列，设计已经基本完成。

外媒在报道中也表示，虽然阿斯麦nxe:5000高数值孔径极紫外光刻机的设计已基本完成，但商用还需时日，预计在2022年开始商用。

作为一款高数值孔径的极紫外光刻机，nxe:5000系列的数值孔径，将提高到0.55，阿斯麦目前已推出的twinscan nxe:3400b和nxe:3400c这两款极紫外光刻机，数值孔径为0.33。

在不久前举办的线上活动中，欧洲微电子研究中心imec首席执行官兼总裁luc van den hove在线上演讲中表示，在与asml公司的合作下，更加先进的光刻机已经取得了进展。

luc van den hove表示，imec的目标是将下一代高分辨率euv光刻技术高na euv光刻技术商业化。由于此前得光刻机竞争对手早已经陆续退出市场，目前asml把握着全球主要的先进光刻机产能，近年来，imec一直在与asml研究新的euv光刻机，目前目标是将工艺规模缩小到1nm及以下。

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